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リソグラフィ (lithography)

別名
露光装置 (lithography) 【ロコウ・ソウチ】

最終更新日: 2002/04/23

 ICの製造工程において、半導体ウエハに回路パターンを焼き付けるための装置、またはその過程のことを指す。

 ウエハ上にフォト・レジスト(感光性樹脂の膜)を塗布してから露光装置を使って回路パターンを焼き付け、それを現像するとフォト・レジスト・パターンと呼ばれるマスクができる。これをエッチング(化学的に腐食させて取り除くこと)してシリコン・ウエハ上の酸化シリコンを一部除去し、そこに不純物を注入するとp型やn型の半導体ができる。この操作を繰り返してウエハ上にIC回路を作成する。どれだけ多くの回路を組み込めるかは、回路パターンを焼き付ける能力に依存する。現在では、回路パターンを焼き付けるためのマスクを縮小投影したり、より短い波長のレーザーや電子ビームを使って光の回折による影響を小さくするなどの技術が使われている。

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